槽式濕法刻蝕清洗設備
槽式濕法刻蝕清洗設備
Wet bench
設備配置說明:
設備類型:Cassette-type & Cassetteless-type,支持SMIF或Foup 晶圓尺寸:150mm, 200mm, 300mm 設備配置:8~12 個槽體, 2~6 個Robot(可定制) 可搭載先進超聲波, 兆聲波 槽體過溫保護, 各Module配置漏液傳感器 多級Wafer保護措施 支持化學液C.C.S.S / L.C.S.S 自動換酸, 自動補液、配液( 可兼容多種濃度配比 先進Marangoni干燥 加熱控制, 濃度控制, 流量控制, 壓力控制 化學液/水, 直排&回收 可靠性能:Uptime≥95% Breakage≤1/10000 MTBF≥720hours MTTR≤3 hours 軟件控制:PC+PLC+GUI 控制, 支持Schedule、EAP、FDC功能