槽式濕法刻蝕清洗設備

槽式濕法刻蝕清洗設備

Wet bench


設備配置說明:

設備類型:Cassette-type & Cassetteless-type,支持SMIF或Foup 晶圓尺寸:150mm, 200mm, 300mm 設備配置:8~12 個槽體, 2~6 個Robot(可定制)                 可搭載先進超聲波, 兆聲波                 槽體過溫保護, 各Module配置漏液傳感器                 多級Wafer保護措施                 支持化學液C.C.S.S / L.C.S.S                 自動換酸, 自動補液、配液( 可兼容多種濃度配比                 先進Marangoni干燥                 加熱控制, 濃度控制, 流量控制, 壓力控制                 化學液/水, 直排&回收 可靠性能:Uptime≥95%           Breakage≤1/10000                  MTBF≥720hours      MTTR≤3 hours        軟件控制:PC+PLC+GUI 控制, 支持Schedule、EAP、FDC功能

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